Samenvatting

Inleiding: Bij mensen met diabetes mellitus is het van belang om met behulp van orthopedisch schoeisel de plantaire drukken te verlagen om het risico op een voetulcus te verkleinen. Een van de schoenaanpassingen die effectief is gebleken in het verlagen van de druk onder de voorvoet is het plaatsen van een transversaalsteun. De vraag is echter: Welke locatie van de transversaalsteun heeft de grootste procentuele plantaire drukafname tot gevolg bij mensen met diabetes mellitus in de huidige schoen technische praktijk?
Methode: In een database was data beschikbaar van 23 proefpersonen waarbij de plantaire drukken zijn gemeten tijdens het lopen op drie verschillende orthopedische zolen. Met behulp van deze data en de afstanden van de apex van de transversaalsteun tot aan de capiti metatarsalia, is de correlatie bepaald tussen de locatie van de transversaalsteun en de procentuele drukafname. Vervolgens is gekeken bij welke positie van de transversaalsteun de grootste procentuele drukafname optreedt en in welk zoolconcept dit het best wordt toegepast.
Resultaten: De locatie (gecorrigeerd voor hoogteverschillen tussen de zolen) van de transversaalsteun voorspelt voor 22.8% de procentuele drukafname op de capiti metatarsalia (r=0.477). De grootste procentuele drukafname wordt verkregen bij een gemiddelde afstand van de apex van de transversaalsteun tot aan de capiti metatarsalia van 17±3mm. De transversaalsteunen in de DIAFOS-OSB zolen worden het best gepositioneerd.
Conclusie: De grootste procentuele drukafname wordt behaald bij een plaatsing van gemiddeld 17mm ten opzichte van de capiti metatarsalia. Er is meer onderzoek noodzakelijk om uitsluitsel te geven of dit het daadwerkelijke optimum is.